Triclorosilano

El triclorosilano purificado es el precursor principal del silicio ultrapuro en la industria de semiconductores.

En agua, se descompone rápidamente para producir un polímero de silicona mientras libera ácido clorhídrico.

Debido a su reactividad y amplia disponibilidad, es frecuentemente utilizado en la síntesis de compuestos orgánicos que contienen silicio.

Estos reactivos se utilizan en ciencia de superficies y nanotecnología para formar monocapas autoensambladas.

Esas capas que contienen flúor disminuyen la energía superficial y reducen la adhesión.