Deposición de vapor mediante procesos químicos organometálicos

Por ejemplo, el fosfuro de indio podría desarrollarse en un reactor sobre un sustrato introduciendo trimetilindio ((CH3)3In) y fosfina (PH3).

Se prefiere emplear esta técnica para la elaboración de dispositivos que incorporen aleaciones metaestables termodinámicamente.

Generalmente, las paredes reactoras están hechas de acero inoxidable o cuarzo.

A menudo, se utilizan como revestimientos entre la pared reactora y el susceptor minerales como el cuarzo o materiales de cerámica, y se asienta el susceptor en un sustrato cuya temperatura va a estar controlada.

El susceptor está formado por un material resistente a los componentes metalorgánicos empleados, como es el grafito entre otros.