Grabado (microfabricación)
En algunos casos, el material de enmascaramiento es una fotorresistencia que se ha modelado mediante fotolitografía.
Otras situaciones requieren una máscara más duradera, como el nitruro de silicio.
[1] Algunos grabados socavan la capa de enmascaramiento y forman cavidades con paredes laterales inclinadas.
Los agentes grabadores con un sesgo grande se denominan isótropos, porque erosionan el sustrato por igual en todas las direcciones.
Los procesos modernos prefieren en gran medida los grabadores anisótropos porque producen características nítidas y bien controladas.
