Barniz fotorresistente
Un barniz fotorresistente es un material sensible a la luz que se utiliza en diversos procesos, como la fotolitografía y el fotograbado, para formar un revestimiento estampado sobre una superficie.
[1] El proceso comienza recubriendo un sustrato con un material orgánico sensible a la luz.
En el caso de una fotorresistencia positiva, la luz degrada el material fotosensible y el revelador disuelve las zonas expuestas a la luz, dejando una capa en el lugar donde se colocó la máscara.
En el caso de una fotorresistencia negativa, el material fotosensible es reforzado (polimerizado o reticulado) por la luz, y el revelador disolverá sólo las regiones que no estuvieron expuestas a la luz, dejando un revestimiento en las zonas donde no se colocó la máscara.
El proceso general consiste en aplicar fotoprotector, exponer la imagen a rayos ultravioleta y luego grabar para eliminar el sustrato revestido de cobre.
