La deposición por haz de iones ( IBD ) es un proceso de aplicación de materiales a un objetivo mediante la aplicación de un haz de iones . [1]
Configuración de deposición por haz de iones con separador de masas
Un aparato de deposición de haz de iones normalmente consta de una fuente de iones, una óptica de iones y el objetivo de deposición. Opcionalmente se puede incorporar un analizador de masas. [2]
Luego, los iones se aceleran, enfocan o desvían utilizando altos voltajes o campos magnéticos. Se puede emplear una desaceleración opcional en el sustrato para definir la energía de deposición. Esta energía suele oscilar entre unos pocos eV y unos pocos keV. [3] Con baja energía, los haces de iones moleculares se depositan intactos (aterrizaje suave de iones), mientras que con una energía de deposición alta, los iones moleculares se fragmentan y los iones atómicos pueden penetrar más en el material, un proceso conocido como implantación de iones . [4]
La óptica iónica (como los cuadrupolos de radiofrecuencia) puede ser selectiva en masa. En IBD se utilizan para seleccionar una única especie de ion o una variedad de especies para su deposición con el fin de evitar la contaminación. En particular, en el caso de los materiales orgánicos, este proceso suele controlarse mediante un espectrómetro de masas . [5]
La corriente del haz de iones, que es una medida cuantitativa de la cantidad de material depositado, se puede controlar durante el proceso de deposición. Se puede utilizar el cambio del rango de masa seleccionado para definir una estequiometría . [6]
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^ Walz, Andrés; Stoiber, Karolina; Huettig, Annette; Schlichting, Hartmut; Barth, Johannes V. (7 de junio de 2022). "Navegue elefantes moleculares voladores de forma segura hasta el suelo: aterrizaje suave selectivo de masa hasta el rango Mega-Dalton mediante deposición de haz de iones controlado por electropulverización". Química analítica . 94 (22): 7767–7778. doi : 10.1021/acs.analchem.1c04495. ISSN 0003-2700. PMC 9178560 . PMID 35609119.
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