El tiofenol es un compuesto organosulfurado con la fórmula C 6 H 5 SH, a veces abreviado como PhSH. Este líquido incoloro y maloliente es el tiol aromático más simple . Las estructuras químicas del tiofenol y sus derivados son análogas a las de los fenoles . Una excepción es que el átomo de oxígeno en el grupo hidroxilo (-OH) unido al anillo aromático se reemplaza por un átomo de azufre . El prefijo tio- implica un compuesto que contiene azufre y cuando se usa antes del nombre de una palabra raíz para un compuesto que normalmente contendría un átomo de oxígeno, en el caso de 'tiol', el átomo de oxígeno del alcohol se reemplaza por un átomo de azufre.
Los tiofenoles también describen una clase de compuestos formalmente derivados del propio tiofenol. Todos tienen un grupo sulfhidrilo (-SH) unido covalentemente a un anillo aromático. El ligando organosulfurado del medicamento tiomersal es un tiofenol.
Existen varios métodos de síntesis de tiofenol y compuestos relacionados, aunque el tiofenol en sí suele adquirirse para operaciones de laboratorio. Dos métodos son la reducción del cloruro de bencenosulfonilo con zinc [5] y la acción del azufre elemental sobre haluro de fenilmagnesio o fenillitio seguido de acidificación.
A través del reordenamiento de Newman-Kwart , los fenoles ( 1 ) se pueden convertir en tiofenoles ( 5 ) mediante la conversión a O-aril dialquiltiocarbamatos ( 3 ), seguido de calentamiento para dar el derivado isomérico S -arilo ( 4 ). [6]
En la reacción de tiofenol de Leuckart , el material de partida es una anilina a través de la sal de diazonio (ArN 2 X) y el xantato (ArS(C=S)OR). [7] [8] Alternativamente, el sulfuro de sodio y los triazenos pueden reaccionar en soluciones orgánicas y producir tiofenoles. [9]
El tiofenol se puede fabricar a partir de clorobenceno y sulfuro de hidrógeno sobre alúmina a una temperatura de 700 a 1300 °F (371 a 704 °C). El disulfuro es el subproducto primario. [10] El medio de reacción es corrosivo y requiere un revestimiento del reactor cerámico o similar. Los yoduros de arilo y el azufre en determinadas condiciones también pueden producir tiofenoles. [11]
Los tiofenoles se utilizan en la producción de productos farmacéuticos, incluidas las sulfonamidas . Los agentes antifúngicos butoconazol y mertiolato son derivados de tiofenoles. [9]
El tiofenol tiene una acidez apreciablemente mayor que el fenol, como lo demuestran sus valores de p K a (6,62 para el tiofenol y 9,95 para el fenol). Se observa un patrón similar para H 2 S versus H 2 O, y todos los tioles versus los alcoholes correspondientes . El tratamiento de PhSH con una base fuerte como hidróxido de sodio (NaOH) o sodio metálico proporciona la sal tiofenolato de sodio (PhSNa).
El tiofenolato es altamente nucleofílico, lo que se traduce en una alta tasa de alquilación. [12] Así, el tratamiento de C 6 H 5 SH con yoduro de metilo en presencia de una base da sulfuro de metil fenilo, C 6 H 5 SCH 3 , un tioéter al que a menudo se hace referencia como tioanisol . Estas reacciones son bastante irreversibles. C 6 H 5 SH también se agrega a carbonilos α, β-insaturados mediante la adición de Michael .
Los tiofenoles, especialmente en presencia de una base, se oxidan fácilmente a disulfuro de difenilo :
El disulfuro se puede reducir a tiol usando borohidruro de sodio seguido de acidificación. Esta reacción redox también se aprovecha en el uso de C 6 H 5 SH como fuente de átomos de H.
El cloruro de fenilsulfenilo, un líquido de color rojo sangre (pe 41 a 42 °C, 1,5 mm Hg), se puede preparar mediante la reacción de tiofenol con cloro (Cl 2 ). [13]
Los cationes metálicos forman tiofenolatos, algunos de los cuales son poliméricos. Un ejemplo es el "C 6 H 5 SCu", que se obtiene tratando cloruro de cobre (I) con tiofenol. [14]
El Instituto Nacional de Seguridad y Salud Ocupacional de EE. UU. ha establecido un límite de exposición recomendado de 0,1 ppm (0,5 mg m −3 ) y exposiciones no superiores a 15 minutos. [15]
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: Mantenimiento CS1: DOI inactivo a partir de junio de 2024 ( enlace ){{cite journal}}
: Mantenimiento CS1: varios nombres: lista de autores ( enlace ); Volúmenes recopilados , vol. 1, pág. 504..{{cite journal}}
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: Mantenimiento CS1: varios nombres: lista de autores ( enlace ); Volúmenes recopilados , vol. 8, pág. 550.{{cite journal}}
: Mantenimiento CS1: varios nombres: lista de autores ( enlace ); Volúmenes recopilados , vol. 6, pág. 248.