El campo RF excita los electrones libres del gas hasta que estos tienen la energía suficiente para romper los átomos del gas en iones y electrones; a este proceso se le llama acoplamiento inductivo, el gas entonces se ioniza y se forma un plasma.El neutralizador es básicamente una fuente de electrones que compensa la carga de los iones en el haz para reducir la divergencia del haz debido a la mutua repulsión de los iones del propio haz y para reducir la carga del blanco.El grabado es conceptualmente similar a usar chorros de arena a presión, pero en lugar de arena se usan los átomos individuales del haz para erosionar el objetivo usando un tipo de haz iónico llamado duoplasmatrón.La aplicación típica del grabado iónico es en la fabricación de semiconductores.Los haces de iones se usan en el tratamiento del cáncer.
