Deposición mediante arco catódico
[1] El material vaporizado luego se condensa en un sustrato, formando una película delgada.
La técnica se puede utilizar para depositar films metálicos, cerámicos, y compuestos.
De entre los numerosos diseños que existían en la Unión Soviética por aquella época se autorizó a que el diseño de L. P. Sablev, y sus colaboradores fuera utilizado en otros países.
El arco posee una densidad de potencia extremadamente elevada lo que produce un alto grado de ionización (30-100%), iones con múltiples cargas, partículas neutras, racimos y macro-partículas (gotas).
Por lo tanto, los campos magnéticos mencionados anteriormente se utilizan para controlar el movimiento del arco.
Algunas empresas también utilizan arcos filtrados que emplean campos magnéticos para separar las gotitas del flujo de recubrimiento.
