Los rayos X iluminan una máscara colocada en las proximidades de una oblea recubierta por una sustancia.En principio, no se usan lentes, tan solo un rudimentario colimador de espejos.Aplicar, en el proceso litográfico, una reducción en la magnificación de 3X presenta muchas ventajas.La máscara se puede fabricar de una manera más sencilla, disminuyendo hacia el hueco entre la oblea lo que incrementada el contraste.Mientras que la definición del patrón se debe principalmente a los electrones secundarios de Auger con un corto recorrido longitudinal, los electrones primarios sensibilizarán la resistencia sobre una región más amplia que en la exposición de rayos X.es reducido desde el punto está en el orden del rango de los fotoelectrones primarios.
Fuente de rayos X litografiando una oblea a través de una máscara opaca a la radiación
