Los diseños de trazado (topografías) de circuitos integrados son un campo de protección de la propiedad intelectual .
En la legislación de propiedad intelectual de los Estados Unidos , una "obra de máscara" es un diseño o topografía bidimensional o tridimensional de un circuito integrado (CI o "chip"), es decir, la disposición en un chip de dispositivos semiconductores como transistores y componentes electrónicos pasivos como resistencias e interconexiones. El diseño se denomina obra de máscara porque, en los procesos fotolitográficos , las múltiples capas grabadas dentro de los CI reales se crean utilizando una máscara, llamada fotomáscara , para permitir o bloquear la luz en ubicaciones específicas, a veces para cientos de chips en una oblea simultáneamente.
Debido a la naturaleza funcional de la geometría de la máscara, los diseños no pueden protegerse eficazmente bajo la ley de derechos de autor (excepto quizás como arte decorativo). De manera similar, debido a que las obras de máscaras litográficas individuales no son claramente materia protegible, tampoco pueden protegerse eficazmente bajo la ley de patentes , aunque cualquier proceso implementado en la obra puede ser patentable. Por lo tanto, desde la década de 1990, los gobiernos nacionales han estado otorgando derechos exclusivos similares a los derechos de autor que confieren exclusividad limitada en el tiempo a la reproducción de un diseño particular. Los plazos de los derechos de circuitos integrados suelen ser más cortos que los derechos de autor aplicables a las imágenes.
En 1989 se celebró en Washington, D.C. , una conferencia diplomática en la que se adoptó un Tratado sobre la propiedad intelectual respecto de los circuitos integrados, también llamado Tratado de Washington o Tratado IPIC. El Tratado, firmado en Washington el 26 de mayo de 1989, está abierto a los Estados miembros de la Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) de las Naciones Unidas (ONU) y a las organizaciones intergubernamentales que cumplan determinados criterios. El Tratado se ha incorporado por referencia al Acuerdo sobre los ADPIC de la Organización Mundial del Comercio (OMC), sujeto a las siguientes modificaciones: el plazo de protección es de al menos 10 (en lugar de ocho) años a partir de la fecha de presentación de una solicitud o de la primera explotación comercial en el mundo, pero los Miembros pueden establecer un plazo de protección de 15 años a partir de la creación del esquema de trazado; el derecho exclusivo del titular del derecho se extiende también a los artículos que incorporan circuitos integrados en los que se incorpora un esquema de trazado protegido, en la medida en que continúe conteniendo un esquema de trazado reproducido ilícitamente; Las circunstancias en las que se pueden utilizar esquemas de trazado sin el consentimiento de los titulares de los derechos son más restringidas; ciertos actos realizados sin saberlo no constituirán infracción. [1]
El Tratado IPIC actualmente no está en vigor, pero fue parcialmente integrado al acuerdo sobre los ADPIC.
El artículo 35 del Acuerdo sobre los ADPIC en relación con el Tratado IPIC establece: [1]
Los Miembros convienen en otorgar protección a los esquemas de trazado (topografías) de circuitos integrados (denominados en el presente Acuerdo "esquemas de trazado") de conformidad con los Artículos 2 a 7 (excepto el párrafo 3 del Artículo 6), el Artículo 12 y el párrafo 3 del Artículo 16 del Tratado sobre Propiedad Intelectual respecto de los Circuitos Integrados y, además, en cumplir con las disposiciones siguientes.
El artículo 2 del Tratado IPIC establece las siguientes definiciones:
i) «circuito integrado»: un producto, en su forma final o en una forma intermedia, en el que los elementos, de los cuales al menos uno es un elemento activo, y algunas o todas las interconexiones están formados integralmente en y/o sobre una pieza de material y que está destinado a realizar una función electrónica,
(ii) 'esquema de trazado (topografía)' significa la disposición tridimensional, cualquiera que sea su expresión, de los elementos, de los cuales al menos uno es un elemento activo, y de algunas o todas las interconexiones de un circuito integrado, o dicha disposición tridimensional preparada para un circuito integrado destinado a ser fabricado...
En virtud del Tratado IPIC, cada Parte Contratante está obligada a garantizar, en todo su territorio, derechos exclusivos sobre los esquemas de trazado (topografías) de circuitos integrados, independientemente de que el circuito integrado de que se trate esté o no incorporado a un artículo. Esta obligación se aplica a los esquemas de trazado que sean originales en el sentido de que sean el resultado del propio esfuerzo intelectual de sus creadores y no sean comunes entre los creadores de esquemas de trazado y los fabricantes de circuitos integrados en el momento de su creación.
Las Partes Contratantes deberán considerar como ilícitos, como mínimo, los actos siguientes, si se realizan sin autorización del titular del derecho: la reproducción del esquema de trazado, y la importación, venta u otra distribución con fines comerciales del esquema de trazado o de un circuito integrado en el que se incorpore el esquema de trazado. Sin embargo, determinados actos podrán realizarse libremente con fines privados o con el solo fin de evaluación, análisis, investigación o enseñanza.
El Código de los Estados Unidos (USC) define una obra de máscara como "una serie de imágenes relacionadas, fijadas o codificadas de cualquier forma, que tienen o representan el patrón tridimensional predeterminado de material metálico, aislante o semiconductor presente o retirado de las capas de un producto de chip semiconductor, y en el que la relación de las imágenes entre sí es tal que cada imagen tiene el patrón de la superficie de una forma del producto de chip semiconductor" [(17 USC § 901(a)(2))]. Los derechos exclusivos de la obra de máscara fueron otorgados por primera vez en los EE. UU. por la Ley de Protección de Chips Semiconductores de 1984 .
Según el artículo 904 del título 17 del Código de los Estados Unidos , los derechos sobre las obras protegidas por derechos de autor duran 10 años, lo que contrasta con el plazo de 95 años de las obras modernas protegidas por derechos de autor con autoría corporativa; las supuestas infracciones de los derechos sobre las obras protegidas por derechos de autor tampoco están protegidas por una defensa legal de uso justo , ni por las típicas exenciones de copia de seguridad que el artículo 117 del título 17 del Código de los Estados Unidos prevé para el software informático . Sin embargo, como el uso justo en obras protegidas por derechos de autor fue reconocido originalmente por el poder judicial más de un siglo antes de ser codificado en la Ley de Derechos de Autor de 1976 , es posible que los tribunales también consideren que se aplica una defensa similar a las obras protegidas por derechos de autor.
El símbolo no obligatorio utilizado en un aviso de protección laboral con mascarilla es Ⓜ ( M encerrada en un círculo; punto de código Unicode o entidadU+24C2 de carácter numérico HTML ) o *M*.U+1F1AD Ⓜ
Los derechos exclusivos sobre una obra de máscara son similares a los del copyright : el derecho a reproducir la obra de máscara o (inicialmente) distribuir un IC hecho usando la obra de máscara. Al igual que la doctrina de la primera venta , un propietario legítimo de un IC autorizado que contenga una obra de máscara puede importar, distribuir o usar libremente, pero no reproducir el chip (o la máscara). La protección de la obra de máscara se caracteriza por ser un derecho sui generis , es decir, uno creado para proteger derechos específicos donde otras leyes (más generales) eran inadecuadas o inapropiadas.
Cabe señalar que los derechos exclusivos concedidos a los propietarios de obras de máscara son más limitados que los concedidos a los titulares de derechos de autor o patentes. Por ejemplo, la modificación (obras derivadas) no es un derecho exclusivo de los propietarios de obras de máscara. De manera similar, el derecho exclusivo de un titular de patente a "utilizar" una invención no prohibiría una obra de máscara creada independientemente con una geometría idéntica. Además, la reproducción para la ingeniería inversa de una obra de máscara está específicamente permitida por la ley. Al igual que con los derechos de autor, los derechos sobre obras de máscara existen cuando se crean, independientemente del registro, a diferencia de las patentes, que solo confieren derechos después de la solicitud, el examen y la emisión.
Los derechos de autor tienen más en común con los derechos de autor que con otros derechos exclusivos , como las patentes o las marcas registradas . Por otro lado, se utilizan junto con los derechos de autor para proteger un componente de memoria de solo lectura (ROM) que está codificado para contener software informático.
El editor de software para una consola de videojuegos basada en cartuchos puede solicitar la protección simultánea de su propiedad bajo varias construcciones legales:
La ley ordinaria de derechos de autor se aplica al software subyacente (fuente, binario) y a los personajes y el arte originales. Pero la fecha de vencimiento del plazo de los derechos exclusivos adicionales sobre una obra distribuida en forma de ROM de máscara dependería de una interpretación aún [actualizar]no probada del requisito de originalidad del § 902(b):
(b) La protección bajo este capítulo (es decir, como una obra con máscara) no estará disponible para una obra con máscara que—
- (1) no es original; o
- (2) consiste en diseños que son básicos, comunes o familiares en la industria de semiconductores, o variaciones de dichos diseños, combinados de una manera que, considerada en su conjunto, no es original.
( 17 USC § 902, a partir de noviembre de 2010 [actualizar]).
Según una interpretación, una máscara que contiene un título de juego determinado es completamente poco original, ya que es probable que la ROM de máscara en general tenga un diseño familiar, o es una variación menor de la máscara de cualquiera de los primeros títulos lanzados para la consola en la región.
La legislación sobre protección del diseño de trazados de circuitos existe en todo el mundo: