El Journal of Vacuum Science and Technology es una revista científica revisada por pares publicada en dos partes, A y B , por el American Institute of Physics en nombre de la American Vacuum Society . Fue fundada en 1964 y el editor en jefe es Eray Aydil ( Universidad de Minnesota ).
La Parte A cubre la ciencia de superficies aplicada , los materiales y el procesamiento electrónicos, la tecnología de fusión, la tecnología del plasma, la ciencia de superficies , las películas delgadas , la metalurgia del vacío y la tecnología del vacío. Según Journal Citation Reports , la revista tiene un factor de impacto de 1,724 en 2015. [1]
La Parte B cubre el procesamiento al vacío y con plasma de diversos materiales, su caracterización estructural, la microlitografía y la física y química de estructuras y dispositivos submicrométricos y nanométricos. Según Journal Citation Reports , la revista tiene un factor de impacto de 1,398 en 2014. [2]