En el diseño de circuitos integrados , el diseño de circuito integrado ( CI ) , también conocido como diseño de máscara de CI o diseño de máscara , es la representación de un circuito integrado en términos de formas geométricas planas que corresponden a los patrones de capas de metal , óxido o semiconductor que forman los componentes del circuito integrado. Originalmente, el proceso general se llamaba tapeout , ya que históricamente los primeros CI usaban cinta crepé negra gráfica sobre medios de mylar para la formación de imágenes fotográficas (se creía erróneamente [ ¿quién? ] que hacía referencia a datos magnéticos; el proceso fotográfico precedió en gran medida a los medios magnéticos [ cita requerida ] ).
Cuando se utiliza un proceso estándar (en el que se conoce y controla cuidadosamente la interacción de las numerosas variables químicas, térmicas y fotográficas), el comportamiento del circuito integrado final depende en gran medida de las posiciones e interconexiones de las formas geométricas. Mediante una herramienta de diseño asistida por ordenador , el ingeniero de diseño (o técnico de diseño) coloca y conecta todos los componentes que forman el chip de manera que cumplan determinados criterios (normalmente: rendimiento, tamaño, densidad y capacidad de fabricación). Esta práctica suele subdividirse en dos disciplinas de diseño principales: analógica y digital .
El layout generado debe pasar una serie de comprobaciones en un proceso conocido como verificación física. Las comprobaciones más habituales en este proceso de verificación son [1] [2]
Cuando se completa toda la verificación, se aplica el posprocesamiento del diseño [3] , donde los datos también se traducen a un formato estándar de la industria, generalmente GDSII , y se envían a una fundición de semiconductores . La finalización del proceso de diseño de enviar estos datos a la fundición ahora se denomina coloquialmente "tapeout". La fundición convierte los datos en datos de máscara [3] y los utiliza para generar las fotomáscaras utilizadas en un proceso fotolitográfico de fabricación de dispositivos semiconductores .
En los primeros días, más simples, del diseño de circuitos integrados, el diseño se hacía a mano utilizando cintas y películas opacas, una evolución derivada de los primeros días del diseño de placas de circuito impreso (PCB): el diseño con cinta.
El diseño moderno de circuitos integrados se realiza con la ayuda de un software de edición de diseño de circuitos integrados , en su mayoría de forma automática mediante herramientas EDA , incluidas herramientas de ubicación y ruta o herramientas de diseño basadas en esquemas . Por lo general, esto implica una biblioteca de celdas estándar .
La operación manual de selección y posicionamiento de las formas geométricas se conoce informalmente como " empujar polígonos ". [4] [5] [6] [7] [8]
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