Los iones pesados rápidos son los componentes de un tipo de haz de partículas con energía lo suficientemente alta como para que el frenado electrónico domine sobre el frenado nuclear . [1] [2]
Se aceleran en aceleradores de partículas a energías muy altas, típicamente en el rango de MeV o GeV y tienen suficiente energía y masa para penetrar sólidos en línea recta. En muchos sólidos, los iones pesados rápidos liberan suficiente energía para inducir zonas cilíndricas modificadas permanentemente, las llamadas pistas de iones . Si la irradiación se lleva a cabo en un material inicialmente cristalino, las pistas de iones consisten en un cilindro amorfo. [1] Las pistas de iones se pueden producir en muchos materiales amorfizantes, pero no en metales puros, donde la alta conductividad térmica electrónica disipa el calentamiento electrónico antes de que la pista de iones tenga tiempo de formarse.
Definición
Los haces de iones pesados se describen generalmente en términos de su energía en megaelectronvoltios (MeV) dividida por la masa del núcleo atómico, escrita "MeV/u". Para que un haz de iones se considere "rápido", los iones constituyentes deben ser de carbono o más pesados, y la energía debe ser tal que las partículas del haz tengan una velocidad comparable a la velocidad de Bohr . [3]
Formación de trazas de iones
Los mecanismos por los cuales se producen las pistas de iones son objeto de cierto debate. Se puede considerar que producen picos térmicos [4] [5]
en el sentido de que conducen a un fuerte calentamiento reticular y a una zona atómica desordenada transitoria. Sin embargo, al menos la etapa inicial del daño podría entenderse mejor en términos de un mecanismo de explosión de Coulomb . [6] Independientemente de cuál sea el mecanismo de calentamiento, está bien establecido que los iones pesados rápidos suelen producir una pista de daño larga y casi cilíndrica en los aislantes, [1] [4] que se ha demostrado que es subdensa en el medio, al menos en SiO 2 . [7] [8]
Aplicaciones
Las pistas de iones pesados rápidos tienen varias aplicaciones prácticas establecidas y potenciales. Las pistas de iones en polímeros se pueden grabar para formar un canal de espesor nanométrico a través de una lámina de polímero, llamadas membranas de grabado de pistas . Estas se utilizan en la industria. [9]
La irradiación de resinas de poliimida tiene potencial para usarse como plantillas para el crecimiento de nanocables . [10]
Las pistas también se pueden usar para pulverizar materiales. [11] [12]
También se pueden usar para alargar nanocristales incrustados en materiales. [13] [14] [15] La irradiación SHI también se puede usar para la modificación estructural de nanomateriales. [16] [17]
Referencias
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